淺談等離子體的刻蝕技術(shù)

  等離子體刻蝕技術(shù)中采用的等離子體是在0.01-1.0真空中輝光放電所形成的非平衡低溫等離子體，這種等離子體的特點(diǎn)是電離度低。

  離子通常少于1％而90％以上都是中性粒子，自由電子和氣體分子之間缺乏熱平衡，氣體溫度不過50-250℃，在電場作用下電子、離子、中性態(tài)和激勵態(tài)分子之間會發(fā)生一系列互作用——彈性或非彈性碰撞。

  在電子與氣體分子的彈性碰撞中只有少量電子能量轉(zhuǎn)移給氣體分子而使氣體溫度上升，在非彈性碰撞中電子失去的能量要多得多，它激勵分子的內(nèi)部運(yùn)動如振動、轉(zhuǎn)動或電子躍遷從而產(chǎn)生了離子、自由基或亞穩(wěn)態(tài)活性體等。

  等離子體是一種電中性、高能量、全部或部分離子化的氣態(tài)物質(zhì)，包含離子、電子、自由基等活性粒子，借助高頻電磁震蕩、射頻或微波、高能射線、電暈放電、激光、高溫等條件產(chǎn)生。

  等離子體清洗是通過其所含的活性粒子與污染物分子反應(yīng)使其從固體表面分離來進(jìn)行的，是一種干式清洗技術(shù)，能夠替代傳統(tǒng)的濕法清洗技術(shù)，能夠在不破壞材料表面特性的前提下，有效清除材料表面的微塵及其它污染物。

  等離子體清洗與常規(guī)的化學(xué)清洗相比具有如下優(yōu)勢：

  1、等離子體清洗時(shí)不需要加熱處理，在常溫或低溫環(huán)境都具有高效的清洗效果；

  2、等離子體避免了濕式化學(xué)清洗中應(yīng)用酸、堿或有機(jī)溶劑等物質(zhì)帶來的腐蝕等危險(xiǎn)，安全可靠；

  3、等離子體清洗無廢液產(chǎn)生，保護(hù)環(huán)境，最后，等離子體清洗技術(shù)最大的特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、環(huán)氧等都能很好地處理，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。本文編輯于http://www.szzy-tech.com